Target sputtering tungsten oxide (WO3) adalah sumber padat keramik yang rapat dari tungsten oxide yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Tungsten oxide merupakan oksida logam transisi anorganik yang dikenal karena sifat optik, listrik, dan penginderaan gasnya. Selama proses sputtering, material target dibombardir dengan ion sehingga terdeposisi sebagai lapisan tipis yang seragam pada substrat, menjadikan target ini cocok untuk proses lapisan tipis di laboratorium maupun industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis elektrokromik untuk jendela pintar dan riset display
- Lapisan sensor gas untuk pengembangan sensor oksida logam
- Studi lapisan fotokatalitik dan fungsional
- Riset elektronika lapisan tipis dan lapisan optik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—