Target sputtering Tungsten Titanium (TiW) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. TiW merupakan paduan tungsten-titanium, golongan material yang banyak digunakan dalam riset lapisan tipis dan pelapisan. Nanografi menyediakan target ini melalui AMI Scientific untuk keperluan deposisi di laboratorium maupun industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan penghalang difusi dalam riset metalisasi semikonduktor dan mikroelektronika
- Pengembangan lapisan adhesi dan penghalang untuk susunan lapisan tipis
- Pengembangan proses deposisi pada sistem sputtering
- Studi akademik tentang lapisan tipis paduan dan sifatnya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—