Target sputtering TiW adalah target paduan logam padat dari tungsten dan titanium, dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD) seperti magnetron sputtering. Paduan tungsten-titanium termasuk paduan logam refraktori, dan target ini berfungsi sebagai bahan sumber yang di-sputter ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Nanografi menyediakan material ini melalui AMI Scientific untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan penghalang difusi dalam riset semikonduktor dan mikroelektronika
- Lapisan adhesi dan interkoneksi dalam fabrikasi perangkat lapisan tipis
- Studi lapisan pelindung dan pelapis keras dalam riset material
- Pengembangan proses lapisan tipis di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—