Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Tungsten Titanium (TiW) Sputtering Targets

Tungsten Titanium (TiW) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 15.478.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 15.478.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Sputtering target Tungsten Titanium (TiW) adalah sumber paduan logam padat yang terbuat dari kombinasi tungsten dan titanium. Material ini dirancang untuk physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. TiW tergolong paduan logam refraktori, yang dihargai karena stabilitas termalnya dan kemampuannya berfungsi sebagai lapisan penghalang antarlapisan.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan penghalang difusi pada metalisasi semikonduktor dan mikroelektronika
  • Lapisan perekat antara film logam dan dielektrik pada perangkat lapisan tipis
  • Lapisan pelindung dan tahan aus dalam riset film tipis keras
  • Pengembangan resistor lapisan tipis dan interkoneksi dalam prototipe laboratorium

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—