Target sputtering tungsten (W) adalah pelat sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Tungsten termasuk golongan logam refraktori, yang dikenal memiliki stabilitas suhu tinggi dan ketahanan mekanik, sehingga targetnya cocok untuk proses lapisan tipis yang menuntut.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset mikroelektronika, seperti lapisan penghalang dan interkoneksi
- Studi lapisan keras dan tahan aus
- Pengembangan lapisan tipis optik dan fungsional
- Riset ilmu material pada lapisan logam refraktori
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—