Target sputtering tungsten (W) adalah cakram atau pelat padat yang terbuat dari tungsten, logam refraktori, dan dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Sputtering melepaskan atom dari target ke substrat untuk membentuk lapisan tipis dengan komposisi dan ketebalan yang terkontrol. Sebagai produk Nanografi, target ini ditujukan untuk riset dan pengembangan lapisan tipis skala laboratorium dan percobaan (pilot).
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Studi lapisan penghalang difusi dan kontak dalam mikroelektronika
- Riset lapisan keras dan tahan aus
- Pengembangan lapisan optik dan reflektif berbasis lapisan tipis
- Riset fabrikasi lapisan target sinar-X
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—