Target sputtering tungsten (W) merupakan sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. Tungsten adalah logam refrakter yang dihargai karena stabilitas mekanik dan ketahanan termalnya. Target umumnya disediakan dalam bentuk keping atau cakram untuk digunakan pada sistem magnetron sputtering.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk interkoneksi mikroelektronika dan lapisan penghalang difusi
- Pengembangan lapisan pelindung keras dan tahan aus
- Studi pelapisan untuk perangkat optik dan elektronik
- Riset material pada lapisan logam refrakter untuk lingkungan bersuhu tinggi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—