Target sputtering tungsten (W) adalah pelat logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD). Tungsten termasuk golongan logam refraktori, dikenal karena ketahanan mekaniknya dan stabilitasnya pada suhu tinggi. Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian terkondensasi pada substrat untuk membentuk lapisan tipis yang seragam.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Studi lapisan penghalang difusi dan interkoneksi dalam riset elektronika lapisan tipis
- Pengembangan lapisan pelindung dan pelapis keras dalam ilmu material
- Riset lapisan tipis optik dan dekoratif
- Pengembangan proses deposisi di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—