Target sputtering tungsten (W) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana bombardemen ion melepaskan atom target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat. Tungsten termasuk golongan logam transisi refraktori, yang dihargai karena kekerasan, stabilitas termal, dan ketahanannya terhadap aus serta suhu tinggi. Nanografi menawarkan material ini sebagai target sputtering untuk riset dan proses lapisan tipis.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan penghalang difusi dan interkoneksi dalam riset mikroelektronika
- Lapisan pelindung keras yang tahan aus
- Lapisan resistor dan elektroda lapisan tipis dalam pengembangan perangkat elektronik
- Studi pelapisan untuk aplikasi optik dan suhu tinggi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—