Target sputtering tungsten (W) adalah cakram atau lempeng padat berdensitas tinggi yang terbuat dari logam tungsten. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana ion menumbuk permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian menempel pada substrat membentuk lapisan tipis. Tungsten termasuk logam refraktori, sehingga target ini umum dipilih untuk lapisan yang membutuhkan stabilitas suhu tinggi dan ketahanan mekanik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan penghalang difusi dan interkoneksi dalam riset mikroelektronika
- Metalisasi lapisan tipis untuk prototipe perangkat semikonduktor
- Lapisan pelindung keras dan tahan aus
- Studi lapisan optik dan sinar-X pada cermin serta tumpukan multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—