Target sputtering tungsten (W) adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Dalam proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom tungsten yang kemudian menempel pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Tungsten termasuk golongan logam refraktori, dikenal karena titik lelehnya yang tinggi dan sifat mekanisnya yang kokoh, sehingga sering dipilih dalam riset lapisan tipis.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis tungsten untuk riset elektronika dan mikrofabrikasi
- Pengembangan lapisan keras dan tahan aus untuk perkakas dan komponen
- Kajian lapisan penghalang difusi dan interkoneksi dalam proses semikonduktor
- Eksperimen pelapisan untuk aplikasi optik dan terkait sinar-X
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—