Target sputtering Tungsten (W) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membuat lapisan tipis. Tungsten merupakan logam refraktori, golongan material yang dikenal memiliki titik leleh tinggi dan ketahanan mekanik yang kuat. Target sputtering dibombardir ion di dalam ruang vakum, sehingga melepaskan atom yang mengendap pada substrat dan membentuk lapisan yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan mikroelektronik
- Pengembangan lapisan penghalang difusi dan metalisasi
- Studi lapisan pelindung tahan aus dan keras
- Prototipe lapisan optik dan rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—