Target sputtering Tungsten (W) adalah lempengan logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering. Selama proses berlangsung, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom tungsten yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Tungsten merupakan logam transisi refraktori, dan produk ini termasuk golongan target sputtering logam yang umum digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis tungsten dan berbasis tungsten untuk riset mikroelektronika
- Studi lapisan penghalang difusi dan lapisan kontak dalam fabrikasi perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan pelindung keras dan tahan aus pada perkakas dan komponen
- Studi lapisan tipis fungsional optik dan elektrik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—