Target sputtering tungsten (tungsten sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,125'', dan dipasok per satu buah. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter, tempat atom-atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Teknik sputtering dapat digunakan untuk beragam material dan mampu melapisi substrat dengan berbagai bentuk serta ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan berskala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter tergolong rumit, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis tungsten pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TU10
- Material: Tungsten (W)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,125''
—
—