Target sputtering tungsten (W) merupakan lempengan logam padat berdensitas tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Tungsten adalah logam transisi refraktori yang dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, kekerasannya, dan kestabilannya pada suhu tinggi. Target sputtering dari material ini termasuk dalam golongan target logam refraktori dan berfungsi sebagai sumber material untuk mendeposisikan tungsten atau lapisan berbasis tungsten pada substrat.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan penghalang difusi dan interkoneksi dalam riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Elektroda lapisan tipis dan lapisan konduktif untuk perangkat elektronik dan optoelektronik
- Lapisan keras dan tahan aus untuk perkakas dan komponen mekanik
- Studi lapisan optik dan lapisan terkait sinar-X di lingkungan laboratorium dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—