Target sputtering vanadium oksida (V2O5) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Vanadium oksida termasuk golongan oksida logam transisi, yang dihargai karena memiliki beberapa keadaan oksidasi serta sifat elektronik dan optik yang fungsional.
- 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis vanadium oksida untuk riset lapisan termokromik dan elektrokromik
- Pengembangan lapisan katoda untuk riset baterai lithium-ion dan baterai lainnya
- Pembuatan lapisan untuk studi sensor gas
- Riset lapisan tipis untuk perangkat optoelektronik dan teknologi smart window
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—