Target sputtering vanadium oksida (vanadium oxide V2O5 sputtering target) dari Nanografi memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Produk ini merupakan varian indium dan dipasok per satu buah untuk deposisi lapisan tipis (thin film) dengan metode sputtering.
Deposisi sputter dapat melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil yang konsisten. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat sputtering menjadi proses yang kompleks. Rentang pengaturan tersebut juga memberi pengguna berpengalaman kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis dengan mengikis material dari target ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi masalah.
- Analisis material melalui etsa, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan ruang angkasa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01VA33
- Material: Vanadium Oksida (V2O5)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Varian: Indium
- Kode produk: NG0ST01VA33
—
—