Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Targets adalah material sumber oksida yang dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD), khususnya sputtering magnetron. V2O5 termasuk dalam golongan oksida logam transisi. Material ini dikenal memiliki berbagai tingkat oksidasi dan struktur kristal berlapis, sehingga banyak dipelajari dalam riset film tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis vanadium oksida untuk riset lapisan elektrokromik dan termokromik
- Pengembangan lapisan fungsional untuk studi sensor gas
- Riset katoda film tipis untuk perangkat penyimpanan energi
- Pembuatan lapisan oksida untuk studi film tipis optik dan elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—