Target sputtering vanadium oxide (V2O5) adalah material sumber berbasis oksida berbentuk padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. V2O5 termasuk golongan oksida logam transisi, yang dikenal memiliki beberapa tingkat oksidasi dan struktur berlapis. Selama proses sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga material berpindah ke substrat dan membentuk lapisan yang seragam untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset kaca pintar dan elektrokromik
- Pengembangan lapisan katoda untuk riset baterai lithium-ion dan sejenisnya
- Fabrikasi struktur lapisan tipis untuk sensor gas
- Studi katalisis dan ilmu permukaan menggunakan lapisan tipis oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—