Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nanografi NG0ST01VA24 Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Target 99.9% 3" x 0.125"

Nanografi NG0ST01VA24 Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Target 99.9% 3" x 0.125"
Harga reguler Rp 17.852.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 17.852.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Targets, Purity: 99.9%, Size: 3'', Thickness: 0.125'' dari Nanografi Advanced Materials.

Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.

Spesifikasi

Material Vanadium Oxide
Simbol V2O5
Kemurnian 99.9%
Ukuran 3''
Ketebalan 0.125''
SKU NG0ST01VA24

Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.

Lihat detail lengkap