Target Sputtering Vanadium Oxide (V2O5) adalah pelat padat berbasis keramik yang terbuat dari vanadium pentoksida, sebuah oksida logam transisi anorganik. Target ini dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD) seperti sputtering, di mana material dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat. Lapisan tipis vanadium oksida banyak dipelajari karena sifat redoks dan elektroniknya, sehingga target ini menjadi pilihan umum untuk riset material dan pengembangan lapisan tipis.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk lapisan jendela pintar dan termokromik
- Pengembangan lapisan katoda dan elektroda untuk studi penyimpanan energi
- Pembuatan struktur uji sensor gas dan perangkat elektronik
- Riset dan pengembangan akademik maupun industri pada lapisan tipis oksida serta optimasi proses PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—