Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Targets

Vanadium Oxide (V2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 24.303.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 24.303.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Vanadium Oxide (V2O5) adalah material sumber oxide keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan film tipis vanadium oxide. Vanadium oxide termasuk golongan oxide logam transisi, yang dikenal karena beragam tingkat oksidasi serta sifat fungsional elektronik dan optik. Target ini ditujukan untuk riset dan pengembangan film tipis.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Riset lapisan termokromik dan kaca pintar (smart window)
  • Studi elektroda film tipis untuk perangkat penyimpanan energi
  • Pengembangan film sensor gas
  • Pembuatan prototipe perangkat optoelektronik dan elektronik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—