Target sputtering vanadium (V) adalah potongan padat dari logam transisi vanadium, dirancang untuk sistem physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom vanadium dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis logam. Target ini digunakan di laboratorium ilmu material yang membutuhkan pertumbuhan lapisan tipis secara terkontrol.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis pada pelapis logam dan oksida
- Pengembangan lapisan elektroda dan konduktif untuk perangkat elektronik
- Riset material berbasis vanadium untuk penyimpanan energi
- Studi pelapis optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—