Target sputtering vanadium (V) adalah pelat logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Vanadium merupakan logam transisi, dan targetnya digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis logam atau berbasis vanadium pada substrat untuk keperluan riset.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk pelapis optik dan fungsional
- Studi lapisan tipis vanadium oksida, termasuk riset perangkat termokromik dan elektrokromik
- Pembuatan prototipe perangkat elektronik dan semikonduktor
- Studi pengembangan lapisan pelindung dan pelapis keras
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—