Target sputtering vanadium (V) adalah cakram atau lempeng padat logam vanadium yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (sputtering). Dalam proses ini, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom vanadium yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Vanadium termasuk logam transisi, dan target ini banyak digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis vanadium untuk riset ilmu material
- Pembuatan lapisan tipis untuk prototipe perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan optik dan pelindung di lingkungan laboratorium
- Penyiapan sampel lapisan tipis untuk studi katalisis dan penyimpanan energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—