Target sputtering vanadium (V) adalah piringan logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis vanadium pada substrat. Vanadium merupakan logam transisi, dan produk ini termasuk dalam rangkaian nanomaterial Nanografi untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan optik dan lapisan pelindung
- Studi dasar lapisan tipis berbasis vanadium untuk riset energi dan katalisis
- Eksperimen rekayasa permukaan dan ilmu material di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—