Target sputtering Vanadium (V) adalah potongan logam vanadium padat yang dirancang untuk sistem physical vapor deposition (PVD). Vanadium merupakan logam transisi, dan target sputtering jenis ini berfungsi sebagai sumber material, di mana atom vanadium dilepaskan melalui pemboman ion dan diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat. Nanografi menyediakan produk ini sebagai bahan habis pakai untuk riset dan pengembangan lapisan tipis di laboratorium maupun industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis logam vanadium untuk studi lapisan konduktif dan kontak listrik
- Riset lapisan tipis vanadium oksida untuk aplikasi termokromik dan pelapis optik
- Pengembangan lapisan permukaan yang tahan aus dan tahan korosi
- Fabrikasi perangkat lapisan tipis dalam riset semikonduktor dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—