Target sputtering Vanadium (V) adalah target padat berbasis logam yang terbuat dari vanadium, sebuah logam transisi. Target ini digunakan dalam sistem sputtering magnetron, yaitu metode physical vapor deposition ketika atom dari target dilepaskan dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Target vanadium umumnya dipilih untuk penelitian lapisan fungsional berbasis logam maupun oksida.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis berbasis vanadium untuk riset elektronik dan optoelektronik
- Pengembangan lapisan vanadium oksida untuk studi elektrokromik dan kaca pintar
- Riset lapisan fungsional dan pelindung pada substrat logam maupun keramik
- Studi elektroda lapisan tipis untuk riset baterai dan penyimpanan energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—