Target sputtering vanadium (V) adalah pelat padat dan berdensitas tinggi dari unsur vanadium, sebuah logam transisi dari blok-d tabel periodik. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber untuk physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Sputtering banyak digunakan di laboratorium riset dan industri untuk menghasilkan film yang seragam dengan ketebalan dan komposisi yang terkontrol.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis berbasis vanadium untuk riset optik dan pelapisan
- Pembuatan lapisan vanadium oksida untuk studi perangkat termokromik dan elektrokromik
- Lapisan metalisasi dan adhesi dalam mikroelektronika dan pembuatan prototipe sensor
- Riset material pada lapisan keras dan lapisan tipis paduan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—