Target sputtering vanadium (vanadium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,5%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,250''. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Teknik sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis vanadium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01VA08
- Bahan: Vanadium (V)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01VA08
—
—