Target sputtering Vanadium (V) adalah material sumber padat yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis vanadium pada substrat. Vanadium merupakan logam transisi, dan produk ini termasuk dalam kategori nanomaterial pada rangkaian Nanografi, cocok untuk riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk pelapis fungsional
- Pengembangan perangkat lapisan tipis elektrokromik dan penyimpanan energi
- Pembuatan lapisan mengandung vanadium untuk studi optik dan elektronik
- Eksperimen rekayasa permukaan dan pelapis pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—