Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets, indium

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 30.766.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 30.766.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering seng oksida (ZnO) adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi film tipis seng oksida pada substrat. ZnO termasuk golongan logam oksida anorganik dan banyak diteliti sebagai semikonduktor celah pita lebar. Judul produk juga menyebutkan indium, sehingga komposisi atau doping yang tepat sebaiknya dikonfirmasi dengan spesifikasi produk sebelum digunakan.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Film oksida konduktif transparan untuk riset display dan optoelektronik
  • Fabrikasi transistor film tipis dan perangkat semikonduktor
  • Lapisan penyangga atau fungsional dalam riset sel surya film tipis
  • Riset sensor gas dan pelapisan permukaan

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—