Target sputtering zinc oxide (ZnO) adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis zinc oxide pada substrat. Produk ini dicantumkan dengan indium pada judulnya, yang menunjukkan komposisi target mengandung indium sebagaimana ditetapkan oleh produsen. Material ini termasuk dalam golongan material target keramik oksida anorganik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Pengembangan lapisan tipis transparent conductive oxide untuk riset display dan panel sentuh
- Studi sel surya lapisan tipis dan perangkat fotovoltaik
- Fabrikasi dan pengujian transistor lapisan tipis serta komponen optoelektronik
- Riset lapisan sensor gas dan lapisan piezoelektrik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—