Target sputtering zinc oxide (ZnO) adalah lempengan sumber padat yang digunakan dalam sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Produk ini tercantum bersama indium, sehingga termasuk dalam golongan target zinc oxide yang mengandung indium. Pastikan komposisi pastinya pada lembar data produk sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan oksida konduktif transparan untuk layar dan panel sentuh
- Riset transistor lapisan tipis oksida dan perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan sel surya lapisan tipis dan optoelektronik
- Studi lapisan pendeteksi gas dan lapisan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—