Target sputtering seng oksida (zinc oxide sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,125''. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis ZnO melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter merupakan teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis seng oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material berbasis sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01ZN31
- Material: Seng Oksida (ZnO)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01ZN31
—
—