Target sputtering Zinc Oxide (ZnO) adalah cakram keramik padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis. ZnO termasuk golongan semikonduktor oksida logam anorganik, yang dihargai karena celah pita lebarnya, transparansi optik, dan sifat piezoelektriknya. Target jenis ini banyak digunakan di laboratorium riset dan proses pelapisan tipis yang membutuhkan deposisi film yang terkontrol dan seragam.
- Kuantitas: 1 pcs
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan konduktif transparan oksida untuk perangkat display dan optoelektronik
- Lapisan penyangga dan lapisan aktif dalam riset thin-film transistor dan sel surya
- Film sensor gas untuk pengembangan sensor oksida logam
- Film piezoelektrik untuk riset MEMS dan perangkat akustik
- Studi fotodetektor UV dan perangkat pemancar cahaya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—