Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 25.038.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 25.038.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Zinc Oxide (ZnO) adalah potongan keramik padat dan rapat yang terbuat dari seng oksida, yaitu oksida logam anorganik yang banyak diteliti sebagai semikonduktor celah pita lebar. Dalam physical vapor deposition (PVD), target berfungsi sebagai material sumber yang dibombardir ion di dalam ruang vakum, melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan oksida konduktif transparan untuk layar dan sel surya
  • Fabrikasi transistor lapis tipis dan lapisan perangkat optoelektronik
  • Pengembangan lapisan tipis sensor gas dan piezoelektrik
  • Riset pelapisan permukaan untuk lapisan fungsional dan pelindung

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—