Target sputtering Zinc Oxide (ZnO) adalah material sumber padat berbahan keramik yang digunakan dalam deposisi uap fisik untuk menghasilkan lapisan tipis. ZnO merupakan oksida logam anorganik dan semikonduktor celah pita lebar, termasuk dalam golongan keramik oksida dan material lapisan tipis fungsional. Target sputtering jenis ini umum digunakan di laboratorium riset dan produksi skala pilot untuk mendeposisikan lapisan oksida yang seragam pada berbagai substrat.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan oksida konduktif transparan untuk perangkat optoelektronik
- Transistor lapisan tipis dan riset perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan piezoelektrik dan sensor
- Lapisan oksida fungsional untuk riset sel surya dan display
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—