Target sputtering seng oksida (zinc oxide sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,999%. Target ini menjadi sumber material dalam sistem deposisi sputter, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan. Produk dipasok dalam kemasan satu buah.
- Deposisi lapisan tipis seng oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana sampel di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke skala produksi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01ZN40
- Material: Seng Oksida (ZnO)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—