Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 22.445.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 22.445.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Sputtering target zinc oxide (ZnO) adalah material sumber berbentuk oksida yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. ZnO termasuk golongan semikonduktor oksida logam anorganik, dikenal karena transparansi optiknya, sifat elektronik, dan sifat piezoelektriknya. Target ini dirancang untuk dipasang pada sistem sputtering guna deposisi film yang terkontrol dalam riset dan pengembangan.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan oksida konduktif transparan untuk layar dan sel surya lapisan tipis
  • Riset transistor lapisan tipis
  • Pengembangan sensor gas dan UV
  • Lapisan tipis piezoelektrik untuk sensor dan aktuator

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—