Target sputtering zinc oxide (ZnO) adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis zinc oxide. ZnO termasuk golongan oksida logam anorganik dan merupakan semikonduktor tipe-n dengan celah pita lebar yang banyak dipelajari dalam bidang elektronika dan optoelektronika. Target sputtering menyediakan sumber yang stabil dan seragam untuk deposisi lapisan yang konsisten pada substrat dalam lingkungan riset.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan oksida konduktif transparan untuk riset perangkat optoelektronik
- Lapisan kanal transistor lapisan tipis dalam pengembangan elektronika
- Lapisan tipis piezoelektrik dan akustik untuk studi sensor
- Lapisan sensing gas untuk prototipe sensor kimia
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—