Produk ini adalah target sputtering zinc oxide (ZnO) yang disediakan dengan alumina dan indium sebagaimana tercantum pada judul produk. ZnO merupakan oksida semikonduktor anorganik tipe-n dengan celah pita lebar, dan dalam bentuk target sputtering berfungsi sebagai sumber padat untuk deposisi fisika uap (PVD) lapisan tipis. Penambahan alumina dan indium umumnya dikaitkan dengan komposisi ZnO terdoping yang digunakan untuk lapisan konduktif transparan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Film oksida konduktif transparan untuk layar dan panel sentuh
- Elektroda pada sel surya lapisan tipis dan perangkat fotovoltaik organik
- Transistor lapisan tipis dan riset semikonduktor oksida
- Pengembangan lapisan sensor gas dan optoelektronik peka UV
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—