Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium
Harga reguler Rp 13.311.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 13.311.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Produk ini adalah target sputtering berbasis seng oksida (ZnO) yang dikombinasikan dengan alumina (Al2O3). Seng oksida merupakan semikonduktor oksida logam tipe-n. Seng oksida yang didoping alumina umumnya tergolong material oksida konduktif transparan (TCO). Judulnya juga mencantumkan indium, yang mungkin menunjukkan komposisi oksida campuran atau ko-doping, sehingga mohon konfirmasi formulasi pastinya kepada AMI Scientific sebelum digunakan. Target sputtering adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Elektroda konduktif transparan untuk layar dan panel sentuh
  • Lapisan tipis untuk sel surya dan riset fotovoltaik
  • Pengembangan transistor lapisan tipis dan perangkat optoelektronik
  • Riset sensor gas dan lapisan fungsional

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—