Item ini adalah target sputtering, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi film tipis di atas substrat. Berdasarkan judul produk, material ini menggabungkan seng oksida (ZnO), semikonduktor oksida logam dengan celah pita lebar, dengan alumina (Al2O3), oksida keramik, dan indium juga tercantum dalam nama produk. Komposisi dan bentuk pasti sebaiknya dikonfirmasi kepada AMI Scientific sebelum digunakan.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.
- Deposisi film tipis oksida konduktif transparan
- Riset perangkat optoelektronik dan semikonduktor berbasis film tipis
- Pengembangan lapisan fotovoltaik dalam skala laboratorium
- Studi sensor gas dan lapisan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—