Produk ini adalah target sputtering yang terbuat dari zinc oxide (ZnO) yang dikombinasikan dengan alumina dan indium, sesuai dengan judul produk. Zinc oxide merupakan oksida semikonduktor celah pita lebar bertipe-n. Target sputtering adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis yang seragam pada substrat. Target ini termasuk golongan keramik oksida yang banyak digunakan dalam riset lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis oksida konduktif transparan
- Riset transistor lapisan tipis dan elektronik oksida
- Pengembangan perangkat optoelektronik
- Fabrikasi lapisan sensor gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—