Target sputtering seng oksida (ZnO) dengan alumina dan indium merupakan material sumber berbahan dasar oksida keramik yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). ZnO adalah semikonduktor oksida celah pita lebar, sedangkan penambahan alumina dan indium umum dieksplorasi untuk memodifikasi sifat listrik dan optik lapisan tipis seng oksida terdoping. Produk Nanografi ini disediakan sebagai target sputtering untuk deposisi lapisan tipis dalam keperluan riset.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan tipis oksida konduktif transparan
- Pengembangan transistor lapisan tipis dan perangkat tampilan
- Studi lapisan penyangga atau elektroda pada fotovoltaik
- Prototipe perangkat optoelektronik dan sensor gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—