Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium
Harga reguler Rp 23.645.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 23.645.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Produk ini adalah target sputtering berbasis seng oksida (ZnO) yang dikombinasikan dengan alumina (Al2O3), sesuai dengan namanya. Target berbasis seng oksida termasuk dalam golongan target keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis. Nama produk juga mencantumkan indium, sehingga komposisi pastinya perlu dikonfirmasi dengan spesifikasi produk.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan tipis konduktif transparan untuk riset display dan perangkat optoelektronik
  • Pengembangan lapisan elektroda untuk sel surya lapisan tipis
  • Studi deposisi sputtering pada film seng oksida terdoping
  • Riset permukaan dan pelapisan di laboratorium ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—