Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium

Target Sputtering Seng Oksida (ZnO) dengan Alumina, indium
Harga reguler Rp 40.210.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 40.210.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Produk ini adalah target sputtering seng oksida (ZnO), yaitu material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis di atas substrat. ZnO termasuk golongan semikonduktor oksida logam celah pita lebar. Berdasarkan judul produk, target ini mengandung tambahan alumina dan indium, sehingga termasuk target keramik seng oksida terdoping. Komposisi pastinya perlu dikonfirmasi melalui dokumentasi produk.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran.

  • Lapisan oksida konduktif transparan untuk riset layar dan panel sentuh
  • Lapisan tipis untuk pengembangan sel surya dan perangkat fotovoltaik
  • Lapisan semikonduktor untuk studi transistor lapisan tipis
  • Lapisan oksida fungsional untuk riset sensor gas dan optoelektronik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—