Target sputtering zinc oxide (ZnO) dengan alumina ini adalah keramik oksida yang disiapkan sebagai material sumber untuk physical vapor deposition (PVD), di mana proses sputtering memindahkan material tersebut ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Material ini termasuk golongan target sputtering keramik oksida, yang memadukan zinc oxide, oksida semikonduktor celah pita lebar golongan II-VI, dengan alumina (Al2O3) sebagai fase aditif yang umum dipelajari untuk mengatur sifat lapisan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis oksida konduktif transparan untuk riset layar dan fotovoltaik
- Fabrikasi lapisan transistor lapisan tipis dan sensor gas dalam R&D akademik maupun industri
- Pengembangan lapisan optik dan pelindung pada substrat kaca dan polimer
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—