Target sputtering seng sulfida (zinc sulfide sputtering target) ZnS dengan indium ini berbentuk cakram berukuran 3'', tebal 0,125'', dengan kemurnian 99,99%. Target berfungsi sebagai sumber material dalam sistem deposisi sputter: atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya berulang secara konsisten sehingga cocok untuk riset skala kecil, dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi kendali tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi perhatian utama.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Studi pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01ZN08
- Material: Seng Sulfida (ZnS), indium
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01ZN08
—
—